grg12 pisze: ↑

11 paź 2019, 16:52

Niezupełnie to o co pytasz - tutaj: https://en.m.wikipedia.org/wiki/Photolithography w części "Resolution in projection systems" piszą że światło UV 200nm pozwala na uzyskania struktur o szerokości 50nm

Jeśli to było do mnie to pomyliłeś raczej pojęcia. W tym artykule piszą " light to transfer a geometric pattern from a photomask (also called an optical mask)" o zastosowaniu fotokopii (metody fotochemicznej) czyli to co poleciliśmy autorowi tematu na początku i tak to się zgadza. Tylko zabawą będzie właśnie przygotowanie tej maski ale urządzenia do tego również wskazałem,
Natomiast w mojej wypowiedzi pisałem jeszcze o świetle lasera które to mają różne długości fali i tak jak napisałem wcześniej laser o im dłuższej długości fali tym większa plamka dla przykładu laser CO2 i stosowane w nim lustra

Jednym słowem CO2 i lasery o podobnej długości fali odpadają, nie zbliżą się do granicy 10um

jasiu... pisze: ↑

11 paź 2019, 13:55

Z drugiej strony, to jednak "setka", to bardzo dużo i laser gazowy powinien dać radę.

Jednak autor zaczyna od 10um. Jaką długość fali mają wspomniane lasery gazowe?
Ważne jest to, że skupienie jest uzależnione od długości fali i tak wiązkę o długości fali 650nm możemy skupić do plamki o średnicy 10um czym dłuższa fala tym większa średnica plamki. Nie ma tu znaczenia czy laser jest gazowy czy półprzewodnikowy.

Kurczę nie mogę odnaleźć tabelki jakie skupienie uzyskujemy przy danej długości fali

pitsa pisze: ↑

11 paź 2019, 06:56

Da się to zrobić. Robisz najpierw duży rysunek kanalików, a potem puszczasz przez szkło pomniejszające i masz żądaną precyzję.

Czekałem na rozwój tematu to co napisałeś to w takim dużym uproszczeniu
Po prostu kamera (ale nie VHS )

i metody fotochemiczne (dla szkła, nie wiem jak tworzywa) coś jak produkcja mikroprocesorów
No chyba, że grawer laserem ale z mojej bardzo skromnej wiedzy to wszelkie lasery termiczne raczej odpadną jeśli już to trzeba by celować w coś w okolicach 405nm